江苏伟创真空镀膜设备有限公司

【磁控溅射镀膜的历史】： 磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法,被普遍地应用于许多方面，特别是在微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。1852年Grove首ci描述溅射这种物理现象,20世纪40年代溅射技术作为一种沉积镀膜方法开始得到应用和发展。60年代后随着半导体工业的迅速崛起,这种技术在集成电路生产工艺中,用于沉积集成电路中晶体管的金属电极层,才真正得以普及和guang泛的应用。磁控溅射技术出现和发展,以及80年代用于制作CD的反射层之后,磁控溅射技术应用领域得到极大地扩展,逐步成为制造许多产品的一种常用手段。 【磁控溅射原理】: 电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶原子，靶原子沉积在基片表面形成膜。二次电子受到磁场影响，被束缚在靶面的等离子体区域，二次电子在磁场作用下绕靶面做圆周运动，在运动过程中不断和氩原子发生撞击，电离出大量氩离子轰击靶材。 【磁控溅射优缺点】： 优点：工艺重复性好，薄膜纯度高，膜厚均匀，附着力好。 缺点：设备结构复杂，靶材利用率低。国产真空镀膜设备哪家好？江苏伟创真空镀膜设备有限公司

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】：一般的镀膜会对基片加热，由于基片是装架在金属圈、碟内，由于镜圈或碟片与镜片（基片）的热膨胀系数不一致，冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。有些大镜片，由于出罩时的温度较高，与室温的温差较大，镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。改善对策：1.夹具（镜圈、碟片）的设计，在尺寸配合上要合理，充分考虑制造误差带来的影响。2.注意镜圈、碟片的变形，已经变形的夹具不能使用。3.选用合适的夹具才来哦（非导磁材料、不生锈、耐高温不变性），不锈钢较为理想（热变形系数小），就是加工难度大，价格贵。4.对于大镜片应降低出罩时的温度，减少温差，防止炸裂。5.如果时镜圈，可以考虑在镜圈上开槽，作为缓冲。河北真空镀膜设备常见故障真空镀膜设备升级改造。

【真空镀膜设备】主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过蒸发镀膜设备+所镀产品图蒸发镀膜设备+所镀产品图程，终形成薄膜。

【离子镀膜法之活性反应蒸镀法】： 活性反应蒸镀法(ABE):利用电子束加热使膜材气化；依靠正偏置探极和电子束间的低压等离子体辉光放电或二次电子使充入的氧气、氮气、乙炔等反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，蒸镀效率高，能获得三氧化铝( AL2O3)、氮化钛(TiN)、碳化钛(TiC)等薄膜；可用于镀机械制品、电子器件、装饰品。 【离子镀膜法之空心阴极离子镀(HCD)】： 空心阴极离子镀(HCD):利用等离子电子束加热使膜材气化；依靠低压大电流的电子束碰撞使充入的气体Ar或其它惰性气体、反应气体离化。这种方法的特点是：基板温升小，要对基板加热，离化率高，电子束斑较大，能镀金属膜、介质膜、化合物膜；可用于镀装饰镀层、机械制品。真空镀膜设备怎么维修。

【真空镀膜设备的分类】：这个问题如果在十年之前，其实是很容易回答的，就是两个大类，物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的，但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了，所以从应用领域上可以分成以下几类：传统光学器件（镜片，滤光片）所用的镀膜设备：单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备，溅射式镀膜设备。新材料领域的柔性设备：卷对卷柔性镀膜设备。光通讯行业：离子束溅射镀膜设备。半导体及相似工艺：化学气相沉积设备。功能膜：多弧离子镀设备，溅射设备，蒸发设备玻璃工艺：溅射式连续线其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了，例如车灯镀膜设备，太阳能的共蒸发设备，光纤镀膜设备，太阳能管设备等等真空镀膜设备故障解决方法？广西装饰真空镀膜设备

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【真空镀膜真空蒸发镀膜原理】:真空蒸发法的原理是：在真空条件下，用蒸发源加热蒸发材料，使之蒸发或升华进入气相，气相粒子流直接射向基片上沉积或结晶形成固态薄膜；由于环境是真空，因此，无论是金属还是非金属，在这种情况下蒸发要比常压下容易得多。真空蒸发镀膜是发展较早的镀膜技术，其特点是：设备相对简单，沉积速率快，膜层纯度高，制膜材料及被镀件材料范围很广，镀膜过程可以实现连续化，应用相当guang泛。按蒸发源的不同，主要分为：电阻加热蒸发、电子束蒸发、电弧蒸发和激光蒸发等。江苏伟创真空镀膜设备有限公司